核心观点
●公司是国内先进半导体材料平台型企业
●ALD/CVD前驱体材料（MO源）、电子特气、和光刻胶三大业务板块（12-16年主要收入来自MO源，17年特气发力，19年收购飞源气体,成核心收入来源（70以上）
●公司上下游产业链
MO源
●国内市占率第一，目前公司已成全球MO源主要生产商，全球市占率超过40%，四家公司占95%
●MO源的制备包括合成、纯化、分析和罐装环节。
●MO源上游原材料包括镓、铟等稀有金属。
●该类金属受经济波动影响较大，但同时，MO源作为高毛利产品，镓、铟等金属成本仅占营收的20%
●MO源下游行业主要为LED行业。LED生产包括外延片生长、芯片加工和芯片封装三个步骤，
ALD前驱体
●原子层沉积(atomiclayerdeposition，ALD)技术是一种基于有序、表面自饱和反应的化学气相薄膜沉积技术。
●ALD前驱体业务与MO源业务同为金属有机化合物，制备技术和生产管理●具备部分相似性，下游应用领域也有重叠
●公司将ALD前驱体作为MO源的业务延
●生，充分发挥了公司在半导体镀膜领域的经验技术，
●有助于丰富公司产品多元性。
●已经掌握了多种ALD/CVD前驱体材料的生产技术，
●并且具备规模化生产的能力，公司开始提供包括TDMAT在内的多种产品，部分产品
●已经通过客户的验证，实现小批量销售。
客户
特气
●LED、IC、LCD芯片制造企业。
●子公司全椒南大光电磷烷、砷烷实现国产替代（磷烷、砷烷是高纯特种气体中技术门槛和开发难度最高的两个品种，是半导体、LED、光伏、航天和国防事业的关键原材料，并长期处于海外技术封锁阶段）NF3作为一种等离子体蚀刻气体，具有优异的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染，可显著提高清洗速度，用于化学气相沉积（CVD）腔体清洗，也可作为蚀刻剂用作LCD的加工。磷烷、砷烷在LED领域大量应用于GaAs基LED外延生长过程中的GaAs、InAIP化学气相沉积，在半导体领域中主要应用于离子注入工序
●收购飞源气体（主三氟化氮NF3与六氟化硫SF6等含氟特种电子气体)。电子级高纯SF6是一种理想的电子蚀刻剂，被大量应用显示面板以及半导体加工过程中的干刻。●飞源已成功进入多家国际领先企业供应名单，如台积电、重庆惠科中芯国际、京东方、鸿海集团中国西电等，已得到客户认可。年底产能位列国内第二、全球第三
●光刻胶以及高端前驱体的研发和产业化可以使公司得到半导体行业领先客户的认可，并实现大批量供货。氟系、硅系、氢系三大核心技术和产品可以使公司在电子特气领域提升市占率及技术水平，加大在半导体领域的销售比重，推进半导体电子特气的国产替代
●纯度已达到6N级别世界先进水平目前占据国内市场份额达75%以上
光刻胶
光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的混合液体。其组成部分包括：光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂。光刻胶可以通过光化学反应，经曝光、显影等光刻工序将所需要的微细图形从光罩（掩模版）转移到待加工基片上。
依据使用场景，这里的待加工基片可以是集成电路材料，显示面板材料或者印刷电路板。半导体光刻胶中的KrF、ArF作为高端光刻胶，我国的市占率，仅1%。而就这1%，也成了国内半导体厂商必争之地
前景
全球百亿美金市场，显示+PCB+IC三大应用推动发展
全球市场持续扩容，年有望突破百亿美金。光刻胶作为制造关键原材料，随着未来汽车、人工智能、国防等领域的快速发展，全球光刻胶市场规模将有望持续增长根据Reportlinker数据，全球光刻胶市场预计-年复合年增长率有望达到6.3%，至年突破亿美金，到年超过亿美元。
大陆市场增速高于全球，年有望超过百亿人民币。叠加产业转移因素，中国光刻胶市场的增长速度超过了全球平均水平。根据中商产业研究院数据，年中国光刻胶市场达93.3亿元，16-21年CAGR为11.9%，21年同比增长11.7%，高于同期全球光刻胶增速5.75%。随着未来PCB、LCD和半导体产业持续向中国转移，中国光刻胶市场有望不断扩大，占全球光刻胶市场比例也将持续提升，预计到年占比有望从年的15%左右提升到19.3%。
根据应用领域的不同，光刻胶可分为印刷电路板（PCB）用光刻胶、液晶显示（LCD）用光刻胶、半导体用光刻胶和其他用途光刻胶。根据Reportlinker数据，年PCB、半导体和平板显示光刻胶占比分别为27.8%、21.9%、23.0%，为前三大应用领域。
亮点●全球半导体光刻胶市场增速远高于全球光刻胶平均水平，占比不断提升。据SEMI统计，年全球半导体光刻胶市场规模达24.71亿美元，较上年同期增长19.49%，-年CAGR为12.03%。年全球半导体光刻胶市场规模分别为约为18亿美元，半导体光刻胶占整体光刻胶比重约21.9%，到年占比提升至26.85%。
●大陆半导体光刻胶增速超全球两倍。分地区看，中国大陆半导体光刻胶市场依旧保持着最快增速，年市场规模达到4.93亿美元，较上年同期增长43.69%，超过全年半导体光刻胶增速的两倍；中国占比全球半导体光刻胶市场比重也将从年约10.4%提升到年接近20%。
同行业
●彤程新材：旗下科华北旭光刻胶双龙头，KrF光刻胶已实现放量，公告显示，北京科华是唯一被SEMI列入全球光刻胶八强的中国光刻胶公司，批量供应KrF光刻胶北旭电子是国内面板光刻胶领先企业，TFT正性光刻胶在京东方占有45%以上的份额。公司G线光刻胶的市场占有率达到60%；I线光刻胶和KrF光刻胶批量供应于中芯国际、华虹宏力、长江存储、华力微电子、武汉新芯、华润上华等13家12寸客户和17家8寸客户。子公司北京科华的I线光刻胶已接近国际先进水平，其种类涵盖国内14nm以上大部分工艺需求；KrF产品在Poly、AA、Metal等关键层工艺完成了重大突破，获得客户批量使用；同时TM/TV、Thick、Implant、ContactHole等工艺市占率持续提升。
●晶瑞股份，公司光刻胶产品覆盖度广，立足g/i线光刻胶发展高端KrF、ArF光刻胶。子公司苏州瑞红拥有负型光刻胶系列、宽谱正胶系列、g线系列、i线光刻胶系列、KrF光刻胶系列等数十个型号产品。i线光刻胶已向国内中芯国际、合肥长鑫等知名大尺寸半导体厂商供货，是我国供应半导体光刻胶出货量最大的本土企业之一；KrF（nm深紫外）光刻胶产品分辨率达到了0.25～0.13m的技术要求，已通过部分重要客户测试，KrF光刻胶量产化生产线正在积极建设中，计划年形成批量供货。公司设备齐全，ArF光刻胶研发进展顺利。目前公司拥有成系列的光刻机5台，包括2台ArF、KrF光刻机及相关配套设备。目前ArF高端光刻胶研发工作进展顺利，已完成光刻机、匀胶显影机、扫描电镜、台阶仪等设备购臵。
●容大感光：国内PCB光刻胶领先企业
●上海新阳：中国集成电路制造与封测关键材料龙头，已立项研发集成电路制造用高分辨率nmArF光刻胶与及配套材料与应用技术。雅克科技：专注面板光刻胶，外延并购不断扩充光刻胶版图，公司光刻胶业务拥有LG显示、三星、京东方、和华星光电等著名企业
●华懋科技：投资徐州博康（26、7％）切入光刻胶领域，拥有全产业链能力。徐州博康是国内光刻胶领域领先企业，拥有光刻胶原材料到成品的完整产业链布局
总结
南大光电：前驱体材料国际领先，电子特气国内一流，ArF光刻胶成功产业化
●想买未来高端技术的就买南大（ArF光刻胶产品继年底在一家存储芯片制造企业的50nm闪存平台上通过认证后，年5月又在一家逻辑芯片制造企业55nm技术节点的产品上取得了认证突破，并且取得小批量订单，实现销售。
●（年11月7日发布定增预案，募投项目包含“先进光刻胶及高纯配套材料的开发和产业化”、“ArF光刻胶产品的开发和产业化”以及“扩建吨/年
●三氟化氮生产装置项目”。截至年底，公司拥有年产吨的特气类产能以及年产36.4吨的MO源产品产能，此外公司“ArF光刻胶产品的开发和产业化”项目已建成年产25吨的生产线，为公司ArF光刻胶的规模化量产奠定了基础。拟募集资金总额不超过9亿元，除用于补充流动资金的2.5亿元外，其他资金将用于年产45吨半导体先进制程用前驱体产品产业化项目、年产吨高纯磷烷、砷烷扩产及砷烷技改项目、乌兰察布南大微电子材料有限公司年产吨电子级三氧化氢项目，项目计划投入募集资金金额分别为0.70、0.80和5.00亿元。项目达产后将大幅扩容现有产能，为公司高速发展注入新动力。)
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